中证网讯（记者 杨洁）根据解放日报12月18日消息，近期中微半导体自主研制的5纳米等离子体刻蚀机经台积电验证，性能优良，将用于全球首条5纳米制程生产线。5纳米相当于头发丝直径的二万分之一，是集成电路制程工艺最小线宽。台积电宣布2019年将进行5纳米制程试产、预计2020年量产。

刻蚀机是芯片制造的关键设备之一，曾一度是发达国家的出口管制产品。中微半导体联合创始人倪图强表示，中微与泛林、应用材料、东京电子、日立4家美日企业，组成了国际第一梯队，为7纳米芯片生产线供应刻蚀机，如今通过台积电验证的5纳米刻蚀机，预计能获得比7纳米更大的市场份额。

中微半导体是2004年由尹志尧博士与杜志游博士、倪图强博士、麦仕义博士等40多位半导体设备专家创办，主要深耕集成刻蚀机领域，研制出中国大陆第一台电介质刻蚀机。

目前，中微半导体的介质刻蚀设备、硅通孔刻蚀设备、MOCVD设备等均已成功进入国内外重要客户供应体系。截至2017年底，已有620多个中微半导体生产的刻蚀反应台运行在海内外39条先进生产线上。

根据国际半导体产业协会数据，2018年第三季度中国大陆半导体设备销售额首次超越韩国，预计明年将成为全球最大半导体设备市场，包括中微半导体、北方华创在内的国产设备厂商有望提高设备渗透率。